业界首个高数值孔径EUV光刻机系统已在Intel的俄勒冈州D1X制造工厂组装完成
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转载：https://www.youtube.com/watch?v=WHmRj2mZ-dk
4月18日，美国芯片公司英特尔宣布，其代工厂已接收并完成组装业界首台商用高数值孔径（High NA）极紫外（EUV）光刻机。据介绍，这套重达165吨的设备是阿斯麦（ASML）与英特尔合作数十年后开发的新一代光刻设备，现位于俄勒冈州的D1X制造工厂，正在进行最后的校准。
4月18日，美国芯片公司英特尔宣布，其代工厂已接收并完成组装业界首台商用高数值孔径（High NA）极紫外（EUV）光刻机。据介绍，这套重达165吨的设备是阿斯麦（ASML）与英特尔合作数十年后开发的新一代光刻设备，现位于俄勒冈州的D1X制造工厂，正在进行最后的校准。
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