业界首个高数值孔径EUV光刻机系统已在Intel的俄勒冈州D1X制造工厂组装完成
MẸO! Click chuột phải và chọn "Save link as..." để tải xuống.
| VIDEOS | |||
| MP4 | N/A | 480P | Tải xuống |
| MP4 | N/A | 480P | Tải xuống |
| MP4 | N/A | 360P | Tải xuống |
| MP4 | N/A | 360P | Tải xuống |
| AUDIO | |||
| MP4 | N/A | mp4a.40.2 | Tải xuống |
| MP4 | N/A | mp4a.40.5 | Tải xuống |
| MP4 | N/A | mp4a.40.2 | Tải xuống |
| THUMBNAILS | |||
|
JPEG | Origin Image | Tải xuống |
转载：https://www.youtube.com/watch?v=WHmRj2mZ-dk
4月18日，美国芯片公司英特尔宣布，其代工厂已接收并完成组装业界首台商用高数值孔径（High NA）极紫外（EUV）光刻机。据介绍，这套重达165吨的设备是阿斯麦（ASML）与英特尔合作数十年后开发的新一代光刻设备，现位于俄勒冈州的D1X制造工厂，正在进行最后的校准。
4月18日，美国芯片公司英特尔宣布，其代工厂已接收并完成组装业界首台商用高数值孔径（High NA）极紫外（EUV）光刻机。据介绍，这套重达165吨的设备是阿斯麦（ASML）与英特尔合作数十年后开发的新一代光刻设备，现位于俄勒冈州的D1X制造工厂，正在进行最后的校准。
Trang được hỗ trợ
